阵列偏移草图

在草图模式下,阵列偏移工具用于根据一组源实体创建一连串位移草图实体。

阵列偏移工具通常用于生成电池芯棒或电机线圈的绕组层。激活阵列偏移草图工具时,将进入一种模式,可在其中指定阵列数、阵列方向(向内或向外)和偏移距离。
下图显示以紫色高亮显示的基础草图和以绿色高亮显示的阵列偏移。注意如何设计基础草图才能使连续阵列偏移形成单一连续路径。完成此类草图后,可以沿路径的整个长度扫掠特征轮廓。

要创建草图实体阵列:

  1. 在草图模式下,单击草图面板的草图操作组合框下的 阵列偏移图元)。
  2. 在图形窗口中,选择基础轮廓的所需实体。
  3. 偏移图元组合框中,定义控制阵列的属性(注意可以应用设计参数):
    1. 阵列数中,指定阵列草图数。
    2. 阵列距离中,设置每个连续阵列相对于前一实体的偏移距离(从基础实体开始)。
    3. 偏移选项中,选择阵列方向:
      • 向外 — 用于向外再现一系列基础实体。


      • 向内 — 用于向内再现一系列基础实体。


      在打开草图中,偏移方向可能与 3D-CAD 视图场景中显示的结果不对应。例如,下图显示了偏移方向设为向内,但阵列偏移结果相对于基础选择草图向外显示的示例。

  4. 单击确定完成阵列偏移并返回草图模式。