壁面处理
在大多数具有实际意义的流体问题中,壁面是一个涡旋源。因此,精确预测整个壁面边界层的流和湍流参数至关重要。
边界层的内部区域可以分成三个子层。在每个方程中,流体具有不同的特性:
- 粘性子层
接触壁面的流体层以粘性效应为主,几乎为层流。平均流速仅取决于流体密度、粘度、到壁面的距离和壁面剪切应力。
- 对数层
湍流对数层是粘性效应和湍流效应都占主导地位。
- 缓冲层
缓冲层是粘性子层与对数层之间的过渡层。
可以使用不同的经验方法对每个子层进行建模。无量纲壁面距离 (请参见 Eqn. (1584)),可以用来定义子层的范围。 下图将无量纲速度 (请参见 Eqn. (1585))显示为三个子层间 的函数:
Simcenter STAR-CCM+ 提供了以下类型的壁面处理:
- 高
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高 壁面处理等同于传统的壁面函数法。 此方法使用跨边界层的假设速度、温度和湍流量分布的代数关系,以提供连续体方程的边界条件。壁面函数方法的精度取决于函数中所表达的假设和逼近与实际应用的符合程度。大多数标准壁面函数仅适用于平衡条件。但是,Simcenter STAR-CCM+ 可扩展壁面函数使其包含非平衡效应。
此方法假设近壁网格单元位于边界层的对数层内,即 > 30。 因此,高 壁面处理的主要优点是显著节省了近壁网格单元数量。
- 低
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一般情况下,低 壁面处理等效于传统的低雷诺数方法,其中边界层通过精细分层网格求解,并且预测跨壁边界的流量不需要在层流假设范围外进行建模。
但是,出于鲁棒性的原因,Simcenter STAR-CCM+ 不会应用此方法,但当近壁网格单元的质心位于边界层的粘性子层中时,可应用标准壁函数来获取边界条件。
要求解粘性子层,这些模型需要足够精细的网格,且近壁网格单元的位置为: 约为 1。 此方法带来的计算开销可能非常大,粘性子层可能极薄的大雷诺数流尤为如此。因此,此壁面处理仅适用于低雷诺数流。
- 全
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全 壁面处使用混合壁面函数,对精细网格仿效低 壁面处理,对粗糙网格仿效高 壁面处理。
此外,还借助为中间分辨率网格生成合理结果所需的特征,即壁面网格单元形心位于边界层的缓冲区域内时。因此,此壁面处理适用于范围广泛的近壁网格密度。
- 双层全
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两层全 壁面处理,可用于两层湍流模型,使用的方法与全 壁面处理相同。 但是,在近壁网格单元的形心上施加湍流耗散率 的特定值,使其与底层湍流模型的两层公式一致。
粗糙壁面的壁面处理
粗糙度效应是各工程应用程序中的一个严重问题。即使很小的表面缺陷也可能会在速度场中产生明显干扰,并更改流行为,从而影响产品的性能。在大多数情况下,粗糙度结构过小而无法由网格求解。因此,使用壁面粗糙度模型。
通常,通过将内边界层的对数层靠近壁面来对壁面粗糙度效应建模。Simcenter STAR-CCM+ 提供以下方法来体现此效应:
- 粗糙
- 粗糙方法计算粗糙度函数,该函数可减少速度和温度壁函数中的对数律偏移。此方法直接作用于对数律,并假设局部粗糙度高度小于壁面相邻网格单元的壁面距离。
- 粗糙位移原点
- 粗糙位移原点方法使粗糙度高度上方的边界层原点移位,并对速度、温度、湍流耗散率和比耗散率应用修正的壁函数。因此,它对网格分辨率不太敏感,并且允许将高粗糙度值与低湍流模型相结合。
雷诺平均纳维-斯托克斯湍流模型的壁面处理
并非每个 RANS 模型或模型变体中都提供所有壁面处理。某些高雷诺数模型无法减弱受粘性影响区域中的湍流,因此仅包括高 壁面处理。 低雷诺数模型只提供低 壁面处理和所有 壁面处理。 两层全 壁面处理仅可用于两层 K-Epsilon 和两层雷诺应力湍流模型。
湍流模型查找中列出了适用于 RANS 湍流模型的壁面处理。
尺度求解模拟的壁面处理
求解大涡模拟的粘性子层可能成本高昂,因为与 RANS 模拟不同,仅延伸垂直于壁面的网格并不足够。在近零壁面区域生成的条纹结构也需要在跨度和流动方向上有适当的网格定义。因此,可能需要避免必须解析粘性子层,改为执行壁面建模的大漩涡模拟 (WMLES)。为顺利进行此选择,提供了低 壁面处理和所有 壁面处理。
壁面剪切应力通常使用与壁面相邻的网格单元的速度进行计算。但是,如果使用此网格单元作为 WMLES 的参考网格单元,可能会导致低估壁面剪切应力(也称为对数层不匹配)。为了减小此影响,Simcenter STAR-CCM+ 默认使用远离壁面的第二个网格单元作为参考网格单元。
分离涡模拟避开了大涡模拟的具有挑战性的近壁网格要求。它们通过使用 RANS 封闭模型求解边界层。可用的壁面处理取决于用于封闭的 RANS 模型,请参见湍流模型查找。