旋转滚筒中的圆柱形颗粒

本教程模拟大量圆柱形片剂在旋转滚筒中滚转并喷涂保护层。

片剂由圆柱形 DEM 颗粒模拟。将片剂注入旋转的滚筒中，沉降后，跟踪其在锥形喷射器内的停留时间。假设喷射时均匀地涂覆所有片剂，而不考虑它们相对于射流的角度，避免了涂层过程的复杂性。涂层在片剂和混合器壁之间的转移被忽略，因为这是喷射和由于滚筒中空气导致的片剂阻力产生的影响。然而，片剂和鼓壁之间的影响（包括摩擦作用）通过一系列相互作用包括在内。

此教程由两个模拟运行组成。在第一次运行中，将片剂颗粒注入滚筒中，滚筒旋转三秒钟（大约一圈完整的滚筒旋转）以沉降颗粒。在第二次运行中，被动标量激活，并且滚筒再旋转七秒以跟踪涂层过程。

注意，尽管在本示例中选择了层流求解器，但流体流求解器关闭（冻结）。这样，假定滚筒中的空气是静止的，因此对片剂运动的影响可忽略不计。